白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測(cè)

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白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測(cè):Sensofar S neox可對(duì)微流道進(jìn)行非接觸三維測(cè)量，精確量化通道尺寸、深度、粗糙度及層間對(duì)準(zhǔn)，為芯片性能優(yōu)化與工藝控制提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

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更新時(shí)間：2025-11-18

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三維光學(xué)輪廓儀

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白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測(cè)

微流體芯片廣泛應(yīng)用于生物、化學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，其內(nèi)部微通道的尺寸、深度、表面粗糙度直接影響流體的流動(dòng)特性和檢測(cè)靈敏度。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀提供了一種非接觸的方法來(lái)表征微流體芯片的關(guān)鍵幾何參數(shù)。

S neox可以對(duì)微流道進(jìn)行三維掃描，精確測(cè)量通道的寬度、深度、截面形狀（如是否為矩形、梯形或弧形）。這些幾何尺寸的準(zhǔn)確性對(duì)于控制流體的流速、擴(kuò)散和混合效率至關(guān)重要。

通道表面的粗糙度會(huì)影響流體的流動(dòng)阻力，在某些情況下也可能引起蛋白質(zhì)或細(xì)胞的非特異性吸附。S neox可以量化通道底壁和側(cè)壁的粗糙度。

對(duì)于多層結(jié)構(gòu)的微流體芯片，需要測(cè)量層與層之間的對(duì)準(zhǔn)精度。S neox可以通過(guò)測(cè)量對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置偏差來(lái)評(píng)估對(duì)準(zhǔn)誤差。

對(duì)于由透明聚合物制成的微流體芯片，S neox的共聚焦模式或經(jīng)過(guò)透明材料校正的白光干涉模式可以用于測(cè)量。其5軸系統(tǒng)允許傾斜樣品，以更好地測(cè)量通道的側(cè)壁。

此外，S neox還可以用于檢測(cè)微流體芯片在加工過(guò)程中可能產(chǎn)生的缺陷，如殘留的聚合物、通道堵塞或裂紋等。

因此，Sensofar S neox為微流體芯片的研發(fā)和制造提供了一種重要的計(jì)量工具，幫助優(yōu)化加工工藝，確保芯片質(zhì)量的可靠性和一致性。

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