白光干涉儀S neox的濾光片測量

產(chǎn)品簡介

白光干涉儀S neox的濾光片測量:Sensofar S neox可對光學(xué)濾光片基板及成品進(jìn)行非接觸測量，精確量化表面平整度、粗糙度與微缺陷，確保其光譜性能與鍍膜質(zhì)量。

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更新時間：2025-11-18

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光學(xué)濾光片，尤其是干涉型濾光片，其性能取決于內(nèi)部多層膜的結(jié)構(gòu)和厚度。任何基片的不平整度或表面缺陷都會影響濾光片的光譜特性。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀可以用于濾光片基板和成品的關(guān)鍵參數(shù)測量。

對于濾光片基板，表面平整度是核心參數(shù)?；宓木植坎黄秸麜?dǎo)致濾光片中心波長和帶寬發(fā)生變化。S neox的白光干涉模式可以快速掃描基板的大面積區(qū)域，精確測量其整體平面度或局部平整度誤差，確保基板滿足鍍膜要求。

表面粗糙度是另一個重要參數(shù)。過高的表面粗糙度會導(dǎo)致光散射增加，降低濾光片的透射率或增加截止帶的背景噪聲。S neox能夠以亞納米級的垂直分辨率測量基板表面的粗糙度。

對于成品濾光片，S neox可以檢測其表面是否存在劃痕、疵點(diǎn)、顆粒污染等缺陷。這些缺陷會散射光，影響濾光片的性能。儀器可以量化缺陷的尺寸和深度。

此外，對于某些類型的濾光片結(jié)構(gòu)，如嵌入式或表面微結(jié)構(gòu)濾光片，S neox可以測量其三維形貌。

S neox的非接觸式測量避免了對脆弱光學(xué)薄膜表面的潛在損傷。其高分辨率能夠探測到納米尺度的形貌變化。

因此，Sensofar S neox為光學(xué)濾光片的制造過程提供了一種質(zhì)量控制手段，從基板入庫檢驗(yàn)到鍍膜后成品檢測，幫助確保濾光片的光學(xué)性能符合設(shè)計預(yù)期。

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