白光干涉儀S neox的透明材料測(cè)量

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白光干涉儀S neox的透明材料測(cè)量：Sensofar S neox光學(xué)輪廓儀結(jié)合共聚焦模式與專(zhuān)用算法，有效克服透明材料測(cè)量中因折射和多重反射導(dǎo)致的干擾，實(shí)現(xiàn)對(duì)其表面形貌與薄膜厚度的精確表征。

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更新時(shí)間：2025-11-12

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三維光學(xué)輪廓儀

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白光干涉儀S neox的透明材料測(cè)量

透明或半透明材料，如玻璃、聚合物薄膜、光學(xué)涂層、生物材料等，在眾多領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。對(duì)這些材料進(jìn)行表面形貌測(cè)量，是質(zhì)量控制和研究開(kāi)發(fā)中的重要環(huán)節(jié)。然而，透明材料會(huì)給傳統(tǒng)的光學(xué)測(cè)量方法帶來(lái)挑戰(zhàn)，主要原因是光線在穿過(guò)材料表面時(shí)會(huì)發(fā)生折射，并在上下界面產(chǎn)生反射，干擾真實(shí)的表面形貌信息。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀通過(guò)其多模式測(cè)量技術(shù)和專(zhuān)用軟件算法，為透明材料的測(cè)量提供了可行的思路。

當(dāng)光線照射到透明材料表面時(shí)，一部分光會(huì)在空氣-材料界面發(fā)生反射，這部分光攜帶了樣品表面的形貌信息，是白光干涉測(cè)量所需的信號(hào)。另一部分光會(huì)折射進(jìn)入材料內(nèi)部，如果材料底部或內(nèi)部存在界面，還會(huì)產(chǎn)生二次甚至多次反射。這些額外的反射信號(hào)會(huì)與表面信號(hào)混合，導(dǎo)致干涉條紋對(duì)比度下降或出現(xiàn)鬼影，使得重建的三維形貌失真，例如可能測(cè)出虛假的臺(tái)階或錯(cuò)誤的輪廓。

S neox應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)的方式之一是采用共聚焦測(cè)量模式。共聚焦技術(shù)通過(guò)針孔探測(cè)，能有效抑制焦平面以外的散射光和反射光，因此對(duì)表面信號(hào)更為敏感。對(duì)于許多透明樣品，使用共聚焦模式可以直接獲得表面較為真實(shí)的三維形貌，而受下層反射的干擾較小。這使其成為測(cè)量單層透明材料表面粗糙度和形貌的常用選擇。

對(duì)于需要利用白光干涉模式的高垂直分辨率進(jìn)行測(cè)量的情況，或者當(dāng)需要測(cè)量透明薄膜的厚度時(shí)，S neox的軟件提供了專(zhuān)門(mén)的校正算法。用戶(hù)可以在測(cè)量前或測(cè)量后，輸入透明材料的折射率參數(shù)。軟件算法會(huì)考慮光線在穿過(guò)透明層時(shí)因折射產(chǎn)生的光程差變化，并對(duì)測(cè)量得到的形貌數(shù)據(jù)進(jìn)行校正，從而得到更接近物理真實(shí)的表面高度信息。

對(duì)于薄膜厚度測(cè)量，白光干涉儀可以利用來(lái)自薄膜上表面和下表面的反射光之間的干涉效應(yīng)。通過(guò)分析干涉信號(hào)在光譜域或空間域的變化，軟件可以計(jì)算出薄膜的厚度。S neox具備進(jìn)行這種測(cè)量的能力，為其在微納米級(jí)透明膜層的表征方面提供了應(yīng)用空間。

需要注意的是，透明材料的測(cè)量通常需要根據(jù)樣品的具體特性進(jìn)行調(diào)整和優(yōu)化。例如，在樣品背面進(jìn)行消光處理，可以減弱不必要的反射。S neox提供的參數(shù)調(diào)節(jié)靈活性，如光強(qiáng)、濾波設(shè)置等，有助于用戶(hù)優(yōu)化測(cè)量條件，獲得更清晰的干涉信號(hào)。

總之，Sensofar S neox通過(guò)結(jié)合共聚焦技術(shù)的優(yōu)勢(shì)和白光干涉模式的*算法，為透明材料的表面形貌測(cè)量提供了有效的工具。它使得對(duì)玻璃基板平整度、光學(xué)元件表面質(zhì)量、高分子薄膜粗糙度等的定量分析變得更加可行，拓展了光學(xué)輪廓儀的應(yīng)用范圍。

白光干涉儀S neox的透明材料測(cè)量

上一個(gè)：白光干涉儀S neox的自動(dòng)化測(cè)量方案