Sensofar三維測(cè)量輪廓儀雙技術(shù)引擎解析?

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Sensofar三維測(cè)量輪廓儀雙技術(shù)引擎解析?
Sensofar LIN系列是面向工業(yè)與實(shí)驗(yàn)室環(huán)境設(shè)計(jì)的經(jīng)濟(jì)型三維光學(xué)輪廓儀。該系列儀器將共聚焦成像和白光垂直掃描干涉（VSI）兩種技術(shù)集成于一體，提供了在納米至毫米量程范圍內(nèi)進(jìn)行非接觸式三維形貌測(cè)量的解決方案。其設(shè)計(jì)注重操作的便捷性和測(cè)量的穩(wěn)定性，適用于質(zhì)量控制、研發(fā)分析等多種場(chǎng)景。

產(chǎn)品型號(hào)：LIN

更新時(shí)間：2025-10-23

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：163

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

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Sensofar三維測(cè)量輪廓儀雙技術(shù)引擎解析

Sensofar LIN系列輪廓儀的多功能性，源于其集成的共聚焦和白光垂直掃描干涉（VSI）兩種核心技術(shù)。理解這兩種技術(shù)的工作原理和適用場(chǎng)景，有助于用戶充分發(fā)揮設(shè)備的性能。

共聚焦成像技術(shù)細(xì)節(jié)

共聚焦技術(shù)通過在光路中引入一個(gè)共軛針孔，來排除焦平面以外的雜散光。當(dāng)物鏡對(duì)樣本進(jìn)行垂直掃描時(shí)，只有處于焦點(diǎn)位置的光線能高效通過針孔被探測(cè)器接收。通過記錄每個(gè)橫向坐標(biāo)點(diǎn)（x, y）上光強(qiáng)達(dá)到最大值時(shí)對(duì)應(yīng)的垂直位置（z），就可以重建出樣本的三維形貌。這種技術(shù)對(duì)散射性強(qiáng)的表面（如粗糙金屬、噴砂表面）和具有陡峭側(cè)壁的結(jié)構(gòu)有較好的測(cè)量效果，垂直量程也相對(duì)較大。

白光垂直掃描干涉（VSI）技術(shù)細(xì)節(jié)

VSI技術(shù)利用低相干性的白光作為光源。當(dāng)物鏡進(jìn)行垂直掃描時(shí)，從樣本表面反射的光束與從參考鏡反射的光束發(fā)生干涉。只有在光程差接近于零的很小范圍內(nèi)，才會(huì)出現(xiàn)清晰的干涉條紋。通過算法定位每個(gè)像素點(diǎn)干涉條紋對(duì)比度最高的z軸位置，即可確定該點(diǎn)的高度值。VSI技術(shù)在測(cè)量光滑、平坦或輕微起伏的表面時(shí)，能實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)的垂直分辨率，但在測(cè)量高陡坡或大高差結(jié)構(gòu)時(shí)可能存在挑戰(zhàn)。

雙技術(shù)協(xié)同工作

LIN系列的軟件允許用戶根據(jù)應(yīng)用需求靈活選擇技術(shù)。例如，對(duì)于既有大范圍粗糙區(qū)域又有局部光滑臺(tái)階的樣本，可以先使用共聚焦模式進(jìn)行快速預(yù)覽和定位，再切換到VSI模式對(duì)關(guān)鍵區(qū)域進(jìn)行高分辨率測(cè)量。這種組合策略兼顧了測(cè)量效率和細(xì)節(jié)分辨能力，擴(kuò)展了儀器的應(yīng)用范圍。

性能表現(xiàn)的考量因素

兩種技術(shù)的性能均受所選物鏡的數(shù)值孔徑（NA）影響。高倍物鏡（高NA）提供更高的橫向分辨率，但景深和垂直量程會(huì)減?。坏捅段镧R（低NA）則相反。LIN系列的自動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤使得在不同視場(chǎng)和分辨率下切換變得便捷。

總結(jié)

LIN系列所搭載的共聚焦和VSI技術(shù)，構(gòu)成了互補(bǔ)的測(cè)量體系。用戶通過理解其原理，可以針對(duì)不同的樣本特征選擇適當(dāng)?shù)募夹g(shù)模式，從而獲得有價(jià)值的表面三維數(shù)據(jù)。