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LinKam冷熱臺參數(shù):適配不同高溫真空需求

產(chǎn)品簡介

LinKam冷熱臺參數(shù):適配不同高溫真空需求
TS1500V 的各項(xiàng)參數(shù)設(shè)計(jì)充分考慮不同實(shí)驗(yàn)場景與樣品特性的需求,理解參數(shù)含義有助于用戶選擇合適的實(shí)驗(yàn)方案。

產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2025-10-23
廠商性質(zhì):代理商
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LinKam冷熱臺參數(shù):適配不同高溫真空需求

TS1500V 的各項(xiàng)參數(shù)設(shè)計(jì)充分考慮不同實(shí)驗(yàn)場景與樣品特性的需求,理解參數(shù)含義有助于用戶選擇合適的實(shí)驗(yàn)方案。溫度參數(shù)是核心指標(biāo)之一,設(shè)備支持室溫至 1500℃的溫度范圍調(diào)節(jié),1500℃的高溫適用于陶瓷材料燒結(jié)、金屬粉末冶金等需要高溫處理的實(shí)驗(yàn),如氧化鋁陶瓷樣品在 1450℃下保溫 2 小時(shí),可完成燒結(jié)過程;而對于高分子材料熱穩(wěn)定性測試,通常設(shè)置 200-500℃的溫度范圍,避免溫度過高導(dǎo)致樣品碳化。
升溫速率參數(shù)可在 0.1-100℃/min 范圍內(nèi)調(diào)節(jié),不同樣品需匹配不同速率:金屬材料退火實(shí)驗(yàn)適合 5-10℃/min 的中速升溫,確保材料內(nèi)部溫度均勻,減少應(yīng)力產(chǎn)生;而快速熱循環(huán)實(shí)驗(yàn)可選擇 50-100℃/min 的高速升溫,縮短實(shí)驗(yàn)時(shí)間。降溫速率通過自然冷卻或輔助冷卻系統(tǒng)控制,自然冷卻時(shí)從 1500℃降至室溫約需 2 小時(shí),搭配冷卻風(fēng)扇可將降溫時(shí)間縮短至 1 小時(shí),滿足需要快速重復(fù)實(shí)驗(yàn)的場景。
真空度參數(shù)從大氣壓至 10??mbar 可調(diào),高真空(10??-10??mbar)適用于金屬材料真空熔煉、半導(dǎo)體薄膜沉積實(shí)驗(yàn),可減少氣體對樣品的氧化影響;低真空(10?2-10?3mbar)則適合陶瓷材料脫氣實(shí)驗(yàn),平衡脫氣效率與設(shè)備抽真空時(shí)間。以下為 TS1500V 核心參數(shù)表:
參數(shù)類別
具體參數(shù)
溫度范圍
室溫 - 1500℃
升溫速率
0.1 - 100℃/min
真空度范圍
大氣壓 - 10??mbar
樣品槽尺寸
直徑 10mm × 深度 2mm
溫度測量誤差
±1℃
加熱元件材質(zhì)
鉬絲
真空腔體材質(zhì)
不銹鋼

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