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臺(tái)式電鏡&臺(tái)階儀&原位分析
澤攸
細(xì)節(jié)呈現(xiàn):澤攸ZEM20Pro臺(tái)式掃描電鏡性能
細(xì)節(jié)呈現(xiàn):澤攸ZEM20Pro臺(tái)式掃描電鏡性能要深入了解一款掃描電鏡,性能參數(shù)是重要的參考依據(jù)。澤攸ZEM20Pro臺(tái)式掃描電鏡在緊湊的機(jī)身內(nèi),整合了多項(xiàng)實(shí)用性能,滿足日常微觀觀測(cè)的多種需求。
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細(xì)節(jié)呈現(xiàn):澤攸ZEM20Pro臺(tái)式掃描電鏡性能
要深入了解一款掃描電鏡,性能參數(shù)是重要的參考依據(jù)。澤攸ZEM20Pro臺(tái)式掃描電鏡在緊湊的機(jī)身內(nèi),整合了多項(xiàng)實(shí)用性能,滿足日常微觀觀測(cè)的多種需求。
成像分辨率是電鏡的核心指標(biāo)。ZEM20Pro在高加速電壓下可實(shí)現(xiàn)30納米的分辨率,這意味著它能夠清晰呈現(xiàn)大多數(shù)微米及亞微米級(jí)別的精細(xì)結(jié)構(gòu),如材料表面的孔隙、裂紋、涂層均勻性,或生物樣品的表面特征。其放大倍數(shù)范圍從10倍到10萬倍連續(xù)可調(diào),為用戶從宏觀定位到微觀聚焦提供了平滑過渡的觀察體驗(yàn)。
電子光學(xué)系統(tǒng)是成像質(zhì)量的基礎(chǔ)。ZEM20Pro采用三級(jí)電磁透鏡進(jìn)行電子束匯聚,光路結(jié)構(gòu)有助于獲得較小的束斑尺寸,從而提升圖像銳度。其真空系統(tǒng)采用分子泵與隔膜泵組合,能較快達(dá)到工作所需真空度,減少等待時(shí)間,提高工作效率。
在探測(cè)系統(tǒng)方面,設(shè)備標(biāo)配的二次電子(SE)探測(cè)器用于獲取表面形貌襯度圖像,是觀察樣品凹凸起伏的主力;背散射電子(BSE)探測(cè)器則對(duì)原子序數(shù)差異敏感,可用于區(qū)分樣品表面上不同化學(xué)成分的區(qū)域,是進(jìn)行初步成分分析的實(shí)用工具。
型號(hào): ZEM20Pro
關(guān)鍵性能參數(shù):
分辨率: 30 nm (30kV)
放大倍數(shù): 10 - 100,000 x
加速電壓: 0.5, 1, 5, 10, 15, 20, 30 kV (多檔可選)
電子槍: 高亮度預(yù)對(duì)中鎢燈絲
探測(cè)器: 二次電子探測(cè)器、背散射電子探測(cè)器
這些性能配置使得ZEM20Pro能夠應(yīng)用于多項(xiàng)任務(wù):在電子行業(yè)中觀察PCB焊點(diǎn)缺陷、芯片結(jié)構(gòu);在材料領(lǐng)域分析合金相分布、斷口形貌;在地質(zhì)研究中觀察礦物晶體形態(tài);在生物領(lǐng)域觀察花粉、細(xì)胞、毛發(fā)等樣品的表面結(jié)構(gòu)。使用時(shí),根據(jù)樣品的導(dǎo)電性和耐電子束轟擊能力,選擇合適的加速電壓和探針電流是獲得理想圖像的關(guān)鍵。
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