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澤攸 ZEM15:小型科研團(tuán)隊(duì)顯微分析工具

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

澤攸 ZEM15:小型科研團(tuán)隊(duì)顯微分析工具
對(duì)于經(jīng)費(fèi)有限、空間緊張的小型科研團(tuán)隊(duì)或初創(chuàng)企業(yè),澤攸臺(tái)式掃描電子顯微鏡 ZEM15 以其高性?xún)r(jià)比與易維護(hù)性,成為微觀(guān)分析工作的實(shí)用工具,助力完成基礎(chǔ)科研與產(chǎn)品研發(fā)中的顯微觀(guān)察任務(wù)。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-08-25
廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
訪(fǎng)問(wèn)量:68
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澤攸 ZEM15:小型科研團(tuán)隊(duì)顯微分析工具


對(duì)于經(jīng)費(fèi)有限、空間緊張的小型科研團(tuán)隊(duì)或初創(chuàng)企業(yè),澤攸臺(tái)式掃描電子顯微鏡 ZEM15 以其高性?xún)r(jià)比與易維護(hù)性,成為微觀(guān)分析工作的實(shí)用工具,助力完成基礎(chǔ)科研與產(chǎn)品研發(fā)中的顯微觀(guān)察任務(wù)。
產(chǎn)品細(xì)節(jié)
ZEM15 的機(jī)身設(shè)計(jì)注重實(shí)用性,無(wú)復(fù)雜的附加功能,核心操作集中在觸控屏與少數(shù)實(shí)體按鍵上,科研人員無(wú)需專(zhuān)業(yè)操作資質(zhì)即可快速上手。樣品室配備可拆卸樣品臺(tái),支持多種規(guī)格樣品固定(如圓形樣品座、薄片樣品夾),適配金屬粉末、半導(dǎo)體芯片、生物切片等不同類(lèi)型樣品。設(shè)備內(nèi)置小型真空機(jī)組,開(kāi)機(jī)后自動(dòng)完成抽真空流程,無(wú)需外接真空管道,簡(jiǎn)化實(shí)驗(yàn)室布局;真空系統(tǒng)設(shè)有保護(hù)功能,若樣品室密封不良,會(huì)自動(dòng)停止抽真空并報(bào)警,避免設(shè)備損壞。機(jī)身背部設(shè)有散熱風(fēng)扇與防塵濾網(wǎng),長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作(如 4 - 6 小時(shí))也能保持機(jī)身溫度穩(wěn)定,減少因過(guò)熱導(dǎo)致的故障。此外,設(shè)備支持遠(yuǎn)程控制功能,可通過(guò)電腦軟件連接設(shè)備,實(shí)現(xiàn)圖像采集與參數(shù)調(diào)節(jié),方便科研人員在通風(fēng)櫥外操作揮發(fā)性樣品。
產(chǎn)品性能
ZEM15 的性能可滿(mǎn)足小型科研團(tuán)隊(duì)的基礎(chǔ)顯微分析需求。其二次電子圖像分辨率能清晰呈現(xiàn)納米級(jí)別的表面細(xì)節(jié),如觀(guān)察納米涂層的顆粒分布、半導(dǎo)體材料的表面缺陷等;背散射電子圖像可區(qū)分樣品的成分差異,輔助分析材料的元素分布(需配合能譜儀時(shí),設(shè)備預(yù)留能譜儀接口,可后期升級(jí))。加速電壓調(diào)節(jié)范圍寬,低電壓(0.5 - 5kV)適合觀(guān)察易損傷樣品(如生物組織、高分子材料),高電壓(10 - 15kV)適合高分辨率觀(guān)察金屬、陶瓷等硬質(zhì)材料。放大倍數(shù)覆蓋從宏觀(guān)到微觀(guān)的觀(guān)察需求,低倍觀(guān)察可快速定位樣品特征區(qū)域,高倍觀(guān)察能深入分析細(xì)節(jié)結(jié)構(gòu),且圖像畸變較小,數(shù)據(jù)可靠性較好。此外,設(shè)備具備圖像拼接功能,可將多個(gè)局部圖像拼接成大面積全景圖像,適合分析樣品的整體形貌與分布規(guī)律。
用材講究
為適應(yīng)科研場(chǎng)景的長(zhǎng)期使用需求,ZEM15 的樣品室門(mén)密封采用耐老化的硅橡膠密封圈,確保長(zhǎng)期使用后的真空密封性;樣品臺(tái)采用耐腐蝕的鈦合金材質(zhì),減少樣品與樣品臺(tái)的化學(xué)反應(yīng),尤其適合觀(guān)察金屬腐蝕樣品。電子光學(xué)系統(tǒng)的透鏡組件采用無(wú)氧銅材質(zhì),具備良好的導(dǎo)熱性與導(dǎo)電性,減少電子束偏轉(zhuǎn)誤差;探測(cè)器窗口采用超薄氮化硅膜,提高信號(hào)采集效率,保障圖像質(zhì)量。內(nèi)部電路選用工業(yè)級(jí)電子元件,在電壓波動(dòng)(±10%)環(huán)境下仍能穩(wěn)定工作,減少因供電不穩(wěn)定導(dǎo)致的設(shè)備故障;真空機(jī)組的泵體采用耐磨材料,使用壽命可達(dá) 5000 小時(shí)以上,降低維護(hù)成本。
參數(shù)詳情
參數(shù)項(xiàng)
具體數(shù)值
分辨率
二次電子圖像:3.0nm(30kV),背散射電子圖像:5.0nm(30kV)
加速電壓
0.5 - 15kV,步長(zhǎng) 0.1kV
放大倍數(shù)
20 - 100000 倍,連續(xù)可調(diào)
樣品室真空度
高真空模式:≤5×10??Pa,低真空模式:10 - 200Pa(可選)
樣品臺(tái)類(lèi)型
可拆卸式,支持 X/Y 軸手動(dòng)微調(diào),行程 10mm×10mm
電子槍壽命
鎢燈絲:100 - 200 小時(shí)(正常使用)
圖像功能
支持實(shí)時(shí)掃描、靜態(tài)拍照、圖像拼接、亮度 / 對(duì)比度調(diào)節(jié)
擴(kuò)展接口
預(yù)留能譜儀(EDS)接口、二次電子探測(cè)器升級(jí)接口
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
本地可存儲(chǔ) 1000 組圖像,支持 USB 導(dǎo)出
電源要求
220V±10%,50Hz,功率≤1000W
工作環(huán)境
溫度 18 - 28℃,相對(duì)濕度 25% - 65%(無(wú)冷凝)
廣泛用途
在新材料研發(fā)團(tuán)隊(duì)中,ZEM15 可用于觀(guān)察納米復(fù)合材料的顆粒分散情況、涂層的表面均勻性,為材料配方優(yōu)化提供微觀(guān)數(shù)據(jù);在小型電子企業(yè)的研發(fā)中,能檢測(cè)芯片封裝的引線(xiàn)鍵合質(zhì)量、印刷電路板的線(xiàn)路缺陷,輔助改進(jìn)生產(chǎn)工藝;在生物醫(yī)學(xué)初創(chuàng)團(tuán)隊(duì)中,可觀(guān)察醫(yī)用支架的表面形貌、細(xì)胞在材料表面的黏附狀態(tài),為醫(yī)療器械研發(fā)提供參考;此外,在文物修復(fù)研究中,還能分析文物表面的顏料層結(jié)構(gòu)、腐蝕產(chǎn)物形態(tài),助力制定科學(xué)的修復(fù)方案。
使用說(shuō)明
安裝時(shí),需確保實(shí)驗(yàn)室地面平整,工作臺(tái)承重能力≥80kg,設(shè)備周?chē)A(yù)留至少 30cm 空間用于散熱與操作。開(kāi)機(jī)前,檢查設(shè)備電源、數(shù)據(jù)線(xiàn)連接是否正常,清理樣品室內(nèi)部灰塵,確保樣品室門(mén)密封良好。根據(jù)樣品類(lèi)型準(zhǔn)備樣品:導(dǎo)電性樣品(如金屬、半導(dǎo)體)可直接固定;絕緣樣品需用噴金儀噴涂 5 - 10nm 厚的金屬層(如金、鉑),防止電子積累導(dǎo)致圖像失真;生物樣品需經(jīng)過(guò)冷凍干燥或臨界點(diǎn)干燥處理,避免真空環(huán)境下樣品變形。將樣品固定在樣品臺(tái)上,放入樣品室,關(guān)閉樣品室門(mén),在觸控屏上啟動(dòng)抽真空程序,待真空度達(dá)到設(shè)定值(高真空模式適用于高分辨率觀(guān)察,低真空模式適用于易揮發(fā)樣品)。選擇探測(cè)器類(lèi)型(二次電子探測(cè)器用于表面形貌觀(guān)察,背散射電子探測(cè)器用于成分差異分析),設(shè)置加速電壓與放大倍數(shù),啟動(dòng)掃描后調(diào)節(jié)聚焦旋鈕,直至圖像清晰;若需高倍觀(guān)察,可逐步提高放大倍數(shù),同時(shí)微調(diào)聚焦與 astigmatism(像散校正)。觀(guān)察過(guò)程中,可通過(guò)觸控屏保存圖像,或通過(guò)電腦軟件實(shí)時(shí)記錄數(shù)據(jù)。實(shí)驗(yàn)結(jié)束后,先停止掃描,啟動(dòng)樣品室放氣程序,待氣壓恢復(fù)常壓后取出樣品。關(guān)閉設(shè)備電源前,需等待真空機(jī)組停止工作(約 5 分鐘)。日常維護(hù)中,每周清潔一次防塵濾網(wǎng),每月檢查樣品室密封圈是否老化,每季度更換一次真空系統(tǒng)的濾芯;若發(fā)現(xiàn)圖像模糊、真空度無(wú)法達(dá)標(biāo)等問(wèn)題,及時(shí)聯(lián)系專(zhuān)業(yè)人員檢修,避免自行拆解設(shè)備。

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技術(shù)參數(shù)




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