Sensofar新型3D共聚焦白光干涉光學輪廓儀S neox納米材料研究的適配設計

更新時間：2025-10-11

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針對科研場景需求，Sensofar S neox 推出科研定制款，在基礎款之上強化了參數(shù)精度、功能擴展性與數(shù)據(jù)追溯能力。

產(chǎn)品細節(jié)上，科研版保持模塊化設計，可加裝高溫、低溫樣品臺或電學測試附件，實現(xiàn)原位環(huán)境下的 3D 輪廓測量。操作界面除 15.6 英寸觸控屏外，支持外接專業(yè)繪圖板，方便在測量圖像上標注特征區(qū)域，直接完成數(shù)據(jù)分析標注。樣品臺新增 “手動微調(diào)" 模式，搭配精度 0.01mm 的刻度標尺，便于精準定位與重復實驗驗證。

性能方面，光源升級為高穩(wěn)定性 LED 白光，光譜輸出波動 ±2% 以內(nèi)，保障長期實驗的數(shù)據(jù)一致性。圖像傳感器采用 200 萬像素背照式 CMOS，量子效率在 450nm～650nm 波段達 70%，可捕捉低反射率納米材料的微弱信號。白光干涉模塊新增 “動態(tài)干涉條紋分析" 功能，縱向分辨率優(yōu)化至 0.05nm，測量范圍覆蓋 0.5nm～10mm，能精準測量 10nm 金屬薄膜厚度與毫米級臺階高度差。

科研版還具備 “時間序列測量" 功能，可設置 10 秒 / 次至 1 小時 / 次的間隔，連續(xù)記錄材料在外界刺激下的結構變化，如納米涂層加熱收縮、水凝膠吸水膨脹等動態(tài)過程。軟件內(nèi)置 “數(shù)據(jù)溯源" 功能，自動記錄光源強度、環(huán)境溫度等參數(shù)并與測量數(shù)據(jù)綁定，確保實驗可重復性。

科研版核心參數(shù)表

參數(shù)類別	規(guī)格參數(shù)
橫向分辨率	0.12μm（100x 物鏡）
縱向分辨率	0.05nm（白光干涉模式）
樣品臺行程	X/Y 軸 100mm，Z 軸 50mm
時間序列間隔	10 秒 / 次～1 小時 / 次
數(shù)據(jù)輸出格式	.sfc、.stl、.mat、.csv

用途涵蓋碳納米管薄膜粗糙度測量、量子點薄膜厚度分析、生物支架孔隙結構評估等。使用時若進行原位測量，需提前安裝對應附件并校準環(huán)境參數(shù)，如高溫測量需保溫 30 分鐘確保溫度穩(wěn)定。

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